[发明专利]具有选择性体积照射和光场检测的优化容积成像有效
| 申请号： | 201780025414.1 | 申请日： | 2017-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN109074674B | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | T.V.张;S.马达恩;D.B.霍兰德;S.E.弗雷泽 | 申请（专利权）人： | 南加州大学 |
| 主分类号： | G06T15/00 | 分类号： | G06T15/00;G03H1/00;G03H1/22;H04N13/30 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王珊珊 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一方面，涉及利用使用光场检测的选择性体积照射(SVI)优化容积成像的系统和技术包括：光源，被配置为发射照射光，该照射光经由照射光路传播以照射三维(3D)样本；以及光学系统，相对于光源被布置以接收来自被照射的3D样本的光场，其中该光场经由检测光路传播；其中光源、光学系统或这两者可配置为基于将要被照射的3D样本和将要应用的光场检测(LFD)处理来选择3D样本的3D受限照射的体积。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 选择性 体积 照射 检测 优化 容积 成像 | ||
【主权项】：
1.一种容积成像装置，包括：光源，被配置为发射照射光，该照射光经由照射光路传播以照射三维(3D)样本；以及光学系统，相对于所述光源被布置以接收来自被照射的3D样本的光场，其中所述光场经由检测光路传播；其中所述光源、所述光学系统或这两者可被配置为基于要被照射的3D样本和要应用的光场检测(LFD)处理来选择所述3D样本的3D受限照射的体积。
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